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三溫區(qū)真空氣氛回轉(zhuǎn)爐CVD系統(tǒng) 是集三溫區(qū)真空回轉(zhuǎn)爐、三路質(zhì)量流量計(jì)系統(tǒng)及低真空機(jī)組而成一種動(dòng)態(tài)狀態(tài)下的化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。三溫區(qū)開(kāi)啟式真空回轉(zhuǎn)管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu),爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。
查看詳情(含預(yù)熱器)雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng) 雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫;PLC控制5路質(zhì)子流量器,能夠精確控制系統(tǒng)的供氣;真空泵可實(shí)現(xiàn)對(duì)管式爐快速抽真空。CVD(化學(xué)氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長(zhǎng)、沉積,是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備
查看詳情LVU-10低真空系統(tǒng) 其極限真空度為10-1Pa, 內(nèi)部安裝有雙級(jí)旋片機(jī)械泵BSV-10配套使用,其接口為KF25,并配有真空連接管路一套,電阻真空計(jì)ZDR-I和連接管道接頭等。
查看詳情MFC-5Z多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng) 是一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里,移動(dòng)柜大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí),可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。
查看詳情2通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)MFC-2Z 是一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里,移動(dòng)柜大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí),可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。
查看詳情LFM1200C-1微型箱式爐 是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料,高溫度能達(dá)到1100℃,可連續(xù)工作1000℃,控溫精度±1℃;
查看詳情LFM1400系列48L箱式爐是以硅碳棒為加熱元件、采用S型熱電偶和30段可編程溫度控制器。側(cè)開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu),方便客戶放取樣品;爐膛采用高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料,高溫度能達(dá)到1500℃,可連續(xù)工作1400℃,控溫精度±1℃;
查看詳情LFT1200C小型真空管式爐 主要行業(yè)有稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造等行業(yè)進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實(shí)驗(yàn)、物質(zhì)成分測(cè)量等場(chǎng)合。
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